目前彩色濾光片之主流制作方式

彩色濾光片制造方法包括染色法、顏料分散法、印刷法、電鍍法、噴墨法等，其中顏料分散法由于在顏色特性、質量、可靠性等方面均占有優勢，因此成為目前彩色濾光片之主流制作方式，而所謂顏料分散法之彩色濾光片制造工程，包括黑色矩陣工程、RGB工程、后工程、出貨工程。

首先在黑色矩陣工程，是先在無堿之硼玻璃基板上以濺鍍形成氧化鉻/鉻之低反射二層膜，作為基板使用，此低反射二層膜即稱為Metal Black。

然后，再將Metal Black側之正型光阻以旋轉涂布(Spin Coating)，再經由黑色矩陣的光罩圖案，照射紫外線并加以曝光、光阻顯影后，將Metal Black蝕刻，形成黑色矩陣(BM)圖案。

之后，在黑色矩陣之圖案形成后，接著再到RGB工程，所謂RGB工程就是在開口部形成R、G、B三色圖案的工程，首先將著色為R的彩色光阻以Spin涂裝，經由R用圖案光罩，照射紫外線并曝光，再使用堿性系顯影劑將未曝光部份去除，形成第一顏色用的R圖案，再施于攝氏200度以上的后烤(PostCoating)，使圖案具有耐藥性，接著以形成R圖案相同的工程重復在G及B上，各圖案之間均有黑色矩陣加以隔開，此功能是為增加顯示時之對比度及避免雜色光產生。

接著在后工程方面，是形成TFT Array基板之相對電極的ITO透明電極層，即為彩色濾光片，出貨工程即為Z后檢查及捆包。

彩色濾光片制程技術關鍵須注意的是RGB三色間的段差，段差會影響到液晶表現，段差如過大則顯示會有斷層產生，另外，RGB工程為高溫制程，因此原材料選擇須有耐藥性不會發生衰退，再則BM主要為隔絕RGB三顏色，為提高顏色對比的關鍵，且BM一般均要求低反射，反射愈低愈好，色彩表現也會愈好。

光學濾光片窄帶濾光片隨環境溫度變化發生的漂移可以歸因于薄膜材料的折射率溫度系數及其熱膨脹系數。窄帶濾光片的光學特性對溫度變化比較敏感。對于具有正溫度系數的材料,當溫度變化很小時,隨溫度的上升,Z主要的影響就是波峰向長波方向移動;當溫度變化較大時,通常濾光片的濕氣會放出來,有可能引起波峰向短波方向移動。

分析其光學性能與聚集密度、溫度變化和吸濕等因素之間的關系。根據吸濕及溫度引起窄帶濾光片各層膜的厚度誤差,給出了吸濕前后及溫變前后光譜漂移的模型。通過對窄帶濾光片的光學穩定性進行分析和初步實驗,提出了改善窄帶濾光片光學性能的措施。